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고속회전의 Spinning으로 균일한 도포막 코팅
Wafer 및 Flat한 시편에 코팅막 형성
시편 크기별 다양한 모델 (Wafer size 별(2~12
Programmable Process Parameters Setting

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❶Information

- 고속회전의 Spinning으로 균일한 도포막 코팅

- Wafer 및 Flat한 시편에 코팅막 형성

- 시편 크기별 다양한 모델 (Wafer size 별(2~12") 모델)

- Programmable Process Parameters Setting

- Potable / Bench-Top type

- Oilless Vacuum Pump (Dry type)



❷SPEC 

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'※ 다양한 Size 진공척


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